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? 中瑞祥旋涂機(jī) ?的使用原理適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷

要是通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力將液態(tài)涂覆材料均勻地涂布在基片上，并利用溶劑揮發(fā)成膜。旋涂機(jī)通常包括滴膠、高速旋轉(zhuǎn)和干燥三個(gè)主要步驟。

工作原理

旋涂機(jī)的工作原理基于離心力和溶劑揮發(fā)。具體步驟如下：

?滴膠?：將光刻膠或其他液態(tài)材料滴注到基片表面。滴膠量根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來(lái)確定，通常在1-10ml不等?

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?高速旋轉(zhuǎn)?：基片在高速旋轉(zhuǎn)下，離心力使液態(tài)材料均勻鋪展在基片上。旋轉(zhuǎn)速度一般在1500-6000轉(zhuǎn)/分之間，具體速度取決于光刻膠的性能和基片的大小?

1。

?溶劑揮發(fā)?：在高速旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，溶劑逐漸揮發(fā)，形成薄膜。轉(zhuǎn)速和旋轉(zhuǎn)時(shí)間會(huì)影響薄膜的厚度和均勻性?

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3。

不同類型旋涂機(jī)的應(yīng)用

旋涂機(jī)有多種類型，適用于不同的應(yīng)用場(chǎng)景。例如， KW-4A型勻膠機(jī) 適用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝。它主要用于溶膠-凝膠實(shí)驗(yàn)中的薄膜制作，通過(guò)設(shè)置不同的轉(zhuǎn)速和時(shí)間來(lái)控制薄膜的厚度和均勻性?

4。

旋涂過(guò)程中需要注意的問(wèn)題

在旋涂過(guò)程中，需要注意以下幾點(diǎn)：

?邊緣液珠去除?：當(dāng)旋涂粘度高或高沸點(diǎn)的溶劑時(shí)，邊緣液珠會(huì)影響薄膜的質(zhì)量?？梢酝ㄟ^(guò)兩步法旋涂或使用棉簽吸走邊緣液珠來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題?

5。

?薄膜中央孔洞?：旋涂新手可能會(huì)遇到薄膜中央出現(xiàn)孔洞的問(wèn)題，這通常是因?yàn)橹醒雲(yún)^(qū)域沒(méi)有足夠的材料沉積?？梢酝ㄟ^(guò)調(diào)整滴膠量和旋轉(zhuǎn)速度來(lái)避免這種情況?